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Modelling the influence of frequency in a low pressure capacitively coupled hyd...

Autor(es): Marques, L. cv logo 1 ; Jolly, Jacques cv logo 2 ; Gousset, G. cv logo 3 ; Alves, L. L. cv logo 4

Data: 2002

Identificador Persistente: http://hdl.handle.net/1822/3016

Origem: RepositóriUM - Universidade do Minho

Assunto(s): Capacitively coupled discharge; Hydrogen plasma


Descrição
This paper investigates the dependence of plasma density and self-bias voltage with excitation frequency (13.56-40.68 MHz) using a two-dimensional (2D) fluid model in a low pressure (300 mTorr) radio frequency (RF) capacitively coupled hydrogen discharge. A comparison with experimental results reveals that the model predicts the correct trends of density and self-bias voltage variation with driving frequency
Tipo de Documento Artigo
Idioma Inglês
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