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Resistive switching in nanostructured thin films

Autor(es): Silva, H. G. cv logo 1 ; Gomes, Henrique L. cv logo 2 ; Pogorelov, Y. G. cv logo 3 ; Stallinga, Peter cv logo 4 ; De Leeuw, Dago M. cv logo 5 ; Araújo, J. P. cv logo 6 ; Sousa, J. B. cv logo 7 ; Meskers, S. C. J. cv logo 8 ; Kakazei, G. N. cv logo 9 ; Cardoso, S. cv logo 10 ; Freitas, P. P. cv logo 11

Data: 2009

Identificador Persistente: http://hdl.handle.net/10400.1/3319

Origem: Sapientia - Universidade do Algarve


Descrição
Planar capacitor structures based on granular films composed of nanometric ferromagnetic grains embedded in an insulating Al2O3 matrix can switch between a high-conductance and a low-conductance state. The switching properties are induced by a forming process. The ON/OFF resistance ratio is as high as 104 under an electrical field of only 15 kV/m. This resistive switching is accompanied by a capacitive switching between two well-defined voltage-independent states, a behavior that is not readily explained by the filamentary type of conduction.
Tipo de Documento Artigo
Idioma Inglês
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