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Optical doping and damage formation in AIN by Eu implantation

Lorenz, K.; Alves, E.; Gloux, F.; Ruterana, P.; Peres, M.; Neves, A. J.; Monteiro, T.

AlN films grown on sapphire were implanted with 300 keV Eu ions to fluences from 3×1014 to 1.4×1017 atoms/cm2 in two different geometries: “channeled” along the c-axis and “random” with a 10° angle between the ion beam and the surface normal. A detailed study of implantation damage accumulation is presented. Strong ion channeling effects are observed leading to significantly decreased damage levels for the chan...


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