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Effect of germanium addition on the properties of reactively sputtered ZrN films

Pilloud, D.; Pierson, J. F.; Cavaleiro, A.; Lucas, M. C. Marco de

For the first time, Zr-Ge-N films were deposited on silicon and steel substrates by sputtering a Zr-Ge composite target in reactive Ar-N2 mixture. The films were characterised by electron probe microanalysis, X-ray diffraction, micro-Raman spectroscopy and depth-sensing indentation. The effects of the Ge content and substrate bias voltage on the films' structure, internal stress, hardness and oxidation resistan...


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