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Study of the piezoresistivity of doped nanocrystalline silicon thin films

Gaspar, J.; Gieschke, P.; Ehling, C.; Kistner, J.; Gonçalves, N. J.; Vasilevskiy, Mikhail; Paul, O.; Alpuim, P.

The piezoresistive response of n- and p-type hydrogenated nanocrystalline silicon thin films, deposited by hot-wire (HW) and plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) on thermally oxidized silicon wafers, has been studied using four-point bending tests. The piezoresistive gauge factor (GF) was measured on patterned thin-film micro-resistors rotated by an angle θ with respect to the principal strain axis...


Kinetics of diffusion-limited reactions with biased diffusion in percolating to...

Gonçalves, N.J.; Duarte, J.A.M.S.; Cadilhe, A.

Data: 2005   |   Origem: Repositório da UTAD

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