Autor(es):
Rocha, R. P. ; Carmo, J. P.
; Correia, J. H.
; Gomes, J. M.
Data: 2012
Identificador Persistente: http://hdl.handle.net/1822/22051
Origem: RepositóriUM - Universidade do Minho
Assunto(s): Microlenses array; Photolithography; Photoresist; Thermal reflow