Influência da preparação metalográfica e das condições de aquisição das imagens...

• Author(s): Cleiton Carvalho Silva ; Thiago Ivo de S. Menezes ; Hélio Cordeiro de Miranda ; Jesualdo Pereira Farias ; Victor Hugo C. de Albuquerque ; João Manuel R. S.Tavares
• Date: 2011
• Persistent ID: http://hdl.handle.net/10216/56650
• Origin: Repositório Aberto da Universidade do Porto
• Subject(s): Ciências tecnológicas
• Document Type: Conference Object
• Language: Portuguese

Description

In this work, the influence of the metallographic preparation and the image acquisition conditions on the quantification of secondary phases by a multilayer perceptron neural network was investigated. The images were obtained by scanning electron microscopy (SEM) from Ni-based superalloy coatings on C-Mn steel deposited by gas tungsten arc welding (GTAW) cold wire process. The results showed that excessive chemical etching of the microstructure (inadequate metallographic preparation) and/or inadequate brightness and contrast adjustment during the SEM image acquisitions interfere in the segmentation results and consequently on the secondary phase quantifications. O objetivo deste trabalho foi investigar a influência da preparação metalográfica e das condições do processo de aquisição de imagens sobre a quantificação de fases secundárias através de uma rede neural do tipo perceptron multicamadas. As imagens foram obtidas por microscopia eletrônica de varredura (MEV) a partir de revestimentos de superligas à base de Ni soldadas pelo processo TIG com alimentação de arame frio utilizando como substrato um aço C-Mn. Os resultados mostraram que o ataque excessivo (preparação metalográfica inadequada) da microestrutura e/ou o ajuste inadequado de brilho e contraste no momento da aquisição das imagens interferem na qualidade da segmentação e consequentemente nas quantificações obtidas para as fases secundárias.